Dimensione del wafer: 8" | Spedizione: EXW
Dimensione del wafer: 8" | Processo: 2C / 2D
I coat/develop track sono sistemi wet-process automatizzati per la fotolitografia che applicano fotoresist, effettuano bake e sviluppano i wafer esposti. Uniscono spin coater, piastre di cottura, moduli developer, gestione solventi e automazione cassette in una linea per spessori uniformi e alto throughput. Le unità usate variano per dimensioni cassette, livello di automazione e compatibilità chimica: verificare formato wafer, tipi di resist e integrazione con l’impianto prima dell’acquisto.
Verificare capacità cassette, supporto formato wafer, storico dei prodotti chimici, log di manutenzione, stato di pompe e spinner, e presenza di ricambi e manuali.
Eseguire decontaminazione certificata, svuotare e purgare le linee chimiche, fissare i componenti per il trasporto e predisporre documentazione sulla pulizia.
Sono richiesti DI water, scarichi solventi, azoto/aria secca, adeguata alimentazione elettrica, estrazione/ventilazione e talvolta acqua refrigerata o linee vacuum.
Sostituzione filtri e pompe, controllo tenute e tubazioni, verifica cuscinetti degli spinner, taratura delle piastre di cottura e pulizia delle linee chimiche in base al carico di lavoro.
I pezzi OEM e i consumabili critici possono avere tempi di consegna lunghi; confermare disponibilità di guarnizioni, parti pompe, spin chucks e controller prima dell'acquisto.