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2004 Novellus C3 Speed XT
- Produttore: Lam Research - Novellus
Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H
Georgia, USA
2005 Novellus C3 Speed XT
- Produttore: Lam Research - Novellus
Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H
Georgia, USA
2006 Novellus C3 Speed XT
- Produttore: Lam Research - Novellus
Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H
Georgia, USA
2004 Novellus C3 Speed XT
- Produttore: Lam Research - Novellus
Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H
Georgia, USA
2005 Novellus C3 Speed XT
- Produttore: Lam Research - Novellus
Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H
Georgia, USA
2004 Novellus C3 Speed XT
- Produttore: Lam Research - Novellus
Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H
Georgia, USA
AMAT DPS II
- Produttore: Amat
- Modello: Centura
Dimensione del wafer: 12" | Processo: OSSIDO | Camera: 3C/H
Georgia, USA
1997 amat P5000
- Produttore: Amat
- Modello: P5000
Dimensione del wafer: 8 " | Camera: SACVD Delta TEOS 3Ch, SPUTTER 1ch
Massachusetts, USA
Massachusetts, USA
Massachusetts, USA
1995 AMAT P5000
- Produttore: Amat
- Modello: P5000
Dimensione del wafer: 6" | Camera: 1+1C/H (1CVD + 1ETCH)
Massachusetts, USA
1999 AMAT P5000
- Produttore: Amat
- Modello: P5000
Dimensione del wafer: 6" | Camera: 1+1C/H (1CVD + 1ETCH)
Massachusetts, USA
2002 AMAT WSIX
- Produttore: Amat
- Modello: Centura
Dimensione del wafer: 8 " | Camera: 4C/H (TIPO MICROONDE)
Massachusetts, USA
1996 AMAT P5000
- Produttore: Amat
- Modello: P5000
Dimensione del wafer: 8 " | Camera: SACVD Delta TEOS 3Ch, SPUTTER 1ch
Massachusetts, USA
2008 AMAT ENABLER
- Produttore: Amat
- Modello: Centura
Dimensione del wafer: 12" | Processo: OSSIDO | Camera: 3C/H
Massachusetts, USA