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Corea del Sud
RUDOLPH FE-4D
- Produttore: Rudolph
Dimensione del wafer: 8 " | Processo: Ellissometro a fuoco | Spedizione: EXW
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2006 SIGMAMELTEC SFG3000
- Produttore: SIGMAMELTEC
Dimensione del wafer: 12" | Processo: MASCHERA FOTOGRAFICA | Spedizione: EXW
Corea del Sud
2008 LASERTEC BGM 300
- Produttore: Lasertec
Dimensione del wafer: 8 " | Processo: SISTEMA DI ANALISI E VISUALIZZAZIONE DELLA SUPERFICIE DEL WAFER | Spedizione: EXW
Corea del Sud
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1997 LG SEMICON CLS-9002
- Produttore: LG SEMICON
Processo: 3° ISPEZIONE OTTICA | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW
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2001 J.A.WOOLLAM VUV-VASE VU302(GENI)
- Produttore: J.A.WOOLLAM
Dimensione del wafer: 8 " | Processo: ELLIPSOMETRO | Spedizione: EXW
Corea del Sud
2004 RUDOLPH METAPULSE200
- Produttore: Rudolph
- Modello: Metapulse 200
Dimensione del wafer: 8 " | Processo: MET | Spedizione: EXW
Corea del Sud
2003 Rudolph Metapulse 200X cu
- Produttore: Rudolph
- Modello: Metapulse 200
Dimensione del wafer: 8 " | Processo: MET | Spedizione: EXW
Corea del Sud
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2005 Rudolph Metapulse 200
- Produttore: Rudolph
- Modello: Metapulse 200
Dimensione del wafer: 8 " | Processo: MET | Spedizione: EXW
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2001 Rudolph Metapulse 200X CU
- Produttore: Rudolph
- Modello: Metapulse 200
Dimensione del wafer: 8 " | Processo: MET | Spedizione: EXW
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2008 Rudolph Metapulse Metapulse II 200X CU
- Produttore: Rudolph
- Modello: Metapulse 200
Dimensione del wafer: 8 " | Processo: MET | Spedizione: EXW
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2000 RUDOLPH METAPULSE200
- Produttore: Rudolph
- Modello: Metapulse 200
Dimensione del wafer: 8 " | Processo: MET | Spedizione: EXW
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