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Usata Amat Apparecchiature Di Deposizione (Cvd, Pvd) in USA

AMAT DPS II
- Produttore: Amat
- Modello: Centura
Dimensione del wafer: 12" | Processo: OSSIDO | Camera: 3C/H
Georgia, USA
1996 AMAT CENTURA
- Produttore: Amat
- Modello: Centura
Dimensione del wafer: 8" | Camera: 3C/H
Massachusetts, USA
2002 AMAT WSIX
- Produttore: Amat
- Modello: Centura
Dimensione del wafer: 8" | Camera: 4C/H (TIPO MICROONDE)
Massachusetts, USA
1995 AMAT P5000
- Produttore: Amat
- Modello: P5000
Dimensione del wafer: 6" | Camera: 1+1C/H (1CVD + 1ETCH)
Massachusetts, USA
1999 AMAT P5000
- Produttore: Amat
- Modello: P5000
Dimensione del wafer: 6" | Camera: 1+1C/H (1CVD + 1ETCH)
Massachusetts, USA
1996 AMAT P5000
- Produttore: Amat
- Modello: P5000
Dimensione del wafer: 8" | Camera: SACVD Delta TEOS 3Ch, SPUTTER 1ch
Massachusetts, USA
1997 amat P5000
- Produttore: Amat
- Modello: P5000
Dimensione del wafer: 8" | Camera: SACVD Delta TEOS 3Ch, SPUTTER 1ch
Massachusetts, USA
1995 AMAT P5000
- Produttore: Amat
- Modello: P5000
Dimensione del wafer: 8" | Camera: 2C/H
Massachusetts, USA
2008 AMAT ENABLER
- Produttore: Amat
- Modello: Centura
Dimensione del wafer: 12" | Processo: OSSIDO | Camera: 4C/H
Massachusetts, USA
2008 AMAT ENABLER
- Produttore: Amat
- Modello: Centura
Dimensione del wafer: 12" | Processo: OSSIDO | Camera: 3C/H
Massachusetts, USA
2008 AMAT ENABLER
- Produttore: Amat
- Modello: Centura
Dimensione del wafer: 12" | Processo: OSSIDO | Camera: 3C/H
Massachusetts, USA
2008 AMAT ENABLER
- Produttore: Amat
- Modello: Centura
Dimensione del wafer: 12" | Processo: OSSIDO | Camera: 3C/H
Massachusetts, USA
2008 AMAT ENABLER
- Produttore: Amat
- Modello: Centura
Dimensione del wafer: 12" | Processo: OSSIDO | Camera: 3C/H
Massachusetts, USA
2000 AMAT DPS POLY
- Produttore: Amat
- Modello: Centura
Dimensione del wafer: 8" | Camera: 3C/H
Massachusetts, USA
AMAT AXIOM
- Produttore: Amat
- Modello: Centura
Dimensione del wafer: 12" | Processo: OSSIDO DI ETCH | Camera: SOLO CAMERA
Los Angeles, California

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