Usata Metrologia / Ispezione (Semiconduttori) in Corea del Sud

2001 Rudolph Metapulse 200X CU

• usata

• Produttore: Rudolph
• Modello: Metapulse 200

Dimensione del wafer: 8 " | Processo: MET | Spedizione: EXW

2005 Rudolph Metapulse 200

• usata

• Produttore: Rudolph
• Modello: Metapulse 200

Dimensione del wafer: 8 " | Processo: MET | Spedizione: EXW

2008 Rudolph Metapulse Metapulse II 200X CU

• usata

• Produttore: Rudolph
• Modello: Metapulse 200

Dimensione del wafer: 8 " | Processo: MET | Spedizione: EXW

HITACHI FB 2100

• usata

• Produttore: Hitachi

KLA-TENCOR P 12

• usata

• Produttore: KLA-Tencor
• Modello: P-12

1996 BROOKS METARA 7200

• usata

• Produttore: Brooks

Dimensione del wafer: 8 " | Processo: SOPRAVVIVENZA | Spedizione: EXW

2013 HITACHI RS6000

• usata

• Produttore: Hitachi
• Modello: RS 6000

Spedizione: EXW

1991 NIKON 3

• usata

• Produttore: Nikon

Dimensione del wafer: 5" | Processo: STAZIONE OPTI

2010 RUDOLPH S3000A

• usata

• Produttore: Rudolph
• Modello: S3000A

Dimensione del wafer: 12" | Processo: Ellissometria laser a fascio focalizzato | Spedizione: EXW

RUDOLPH WV320 MACRO

• usata

• Produttore: Rudolph

Dimensione del wafer: 8 " | Spedizione: EXW

2006 KLA CI T1X0

• usata

• Produttore: KLA-Tencor

Spedizione: EXW

1991 KLA SFS7200

• usata

• Produttore: KLA-Tencor
• Modello: SFS7200

Dimensione del wafer: 8 " | Processo: Metrologia | Spedizione: EXW

RUDOLPH WV320

• usata

• Produttore: Rudolph
• Modello: WV320

Dimensione del wafer: 12" | Processo: Ispezione macro | Spedizione: EXW`

1990 KLA SFS7200

• usata

• Produttore: KLA-Tencor
• Modello: SFS7200

Dimensione del wafer: 8 " | Processo: Metrologia | Spedizione: EXW

2005 VISTEC LWM9000

• usata

• Produttore: Vistec

Dimensione del wafer: 6" | Spedizione: EXW