Usata etc in Corea del Sud

2011 Honeywell, Chemcassette, nastri per il rilevamento di gas tossici

• Produttore: Honeywell

Numero di serie.: 3036-0529-4517 | Quantità: 10 | Dettaglio dell'attrezzatura: Nastri per il rilevamento di gas tossici Chemcassette | Descrizione: N/A

2005 TEL ALPHA 303I

• Produttore: Tokyo Electron - TEL
• Modello: Alpha-303i

Dimensione del wafer: 12" | Processo: ETCH | Spedizione: EXW

2000 DNS SS-W80AR

• Produttore: Dainippon Screen
• Modello: SS-W80AR

Dimensione del wafer: 8 " | Spedizione: EXW

2010 TEL INDY PLS

• Produttore: Tokyo Electron - TEL

Dimensione del wafer: 12 | Spedizione: EXW

PROBER MP2000

• Produttore: PROBER

2010 AXCELIS INTEGRA

• Produttore: Axcelis
• Modello: Integra

Dimensione del wafer: 12"

1992 DISCO DFG-82IF

• Produttore: Disco
• Modello: DFG-82IF8

Processo: Smerigliatrice rotativa per superfici

VERTEQ SUPERCLEAN 1600

• Produttore: Verteq
• Modello: SUPERCLEAN 1600

1996 NICOLET MAGNA 410 FT-IR

• Produttore: Nicolet
• Modello: MAGNA 410 FT-IR

Processo: Spettrometro | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

MARTEQ VERTEQ SUPERCLEAN 1600

• Produttore: Verteq
• Modello: SUPERCLEAN 1600

Processo: CENTRIFUGA ASCIUGATRICE | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

CARLZEISS AXIOTON

• Produttore: CARLZEISS

Processo: MICROSCOPIO DI ISPEZIONE | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

LEICA Reichert-Jung,Kensington 300901

• Produttore: Leica

Processo: Microscopio per l'ispezione dei wafer | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

LEICA AG KENSINGTON 300901

• Produttore: Leica
• Modello: KENSINGTON 300901

Processo: Microscopio per l'ispezione dei wafer | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

LEICA AG KENSINGTON 300901

• Produttore: Leica
• Modello: KENSINGTON 300901

Processo: Microscopio per l'ispezione dei wafer | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

APPILED MATERIALS JEOL JWS-7500E

• Produttore: Jeol
• Modello: JWS-7500E

Dimensione del wafer: 8 " | Processo: Sistema di ispezione dei wafer | Spedizione: EXW