Usata etc in Corea del Sud

LEICA AG KENSINGTON 300901

• Produttore: Leica
• Modello: KENSINGTON 300901

Processo: Microscopio per l'ispezione dei wafer | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

KEITHLEY KEITHLEY 236

• Produttore: Keithley
• Modello: 236

Dettagli: Unità di misura della sorgente | Spedizione: L'imballaggio e la spedizione sono a carico dell'acquirente. | Commenti: KEITHLEY 236 Unità di misura della sorgente

WONIK IPS MAHA HP

• Produttore: WONIK IPS

Dimensione del wafer: 12" | Spedizione: L'imballaggio e la spedizione sono a carico dell'acquirente. | Commenti: WONIK IPS MAHA HP

OXFORD 800+ RIE

• Produttore: OXFORD

Dimensione del wafer: 5" | Processo: RIE

MM FS4060

• Produttore: MM

Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

2006 SIGMAMELTEC SFG3000

• Produttore: SIGMAMELTEC

Dimensione del wafer: 12" | Processo: MASCHERA FOTOGRAFICA | Spedizione: EXW

2010 AXCELIS INTEGRA

• Produttore: Axcelis
• Modello: Integra

Dimensione del wafer: 12"

2005 TEL ALPHA 303I

• Produttore: Tokyo Electron - TEL
• Modello: Alpha-303i

Dimensione del wafer: 12" | Processo: ETCH | Spedizione: EXW

2000 DNS SS-W80AR

• Produttore: Dainippon Screen
• Modello: SS-W80AR

Dimensione del wafer: 8" | Spedizione: EXW

2010 TEL INDY PLS

• Produttore: Tokyo Electron - TEL

Dimensione del wafer: 12 | Spedizione: EXW

PROBER MP2000

• Produttore: PROBER

2010 AXCELIS INTEGRA

• Produttore: Axcelis
• Modello: Integra

Dimensione del wafer: 12"

1992 DISCO DFG-82IF

• Produttore: Disco
• Modello: DFG-82IF8

Processo: Smerigliatrice rotativa per superfici

VERTEQ SUPERCLEAN 1600

• Produttore: Verteq
• Modello: SUPERCLEAN 1600

1996 NICOLET MAGNA 410 FT-IR

• Produttore: Nicolet
• Modello: MAGNA 410 FT-IR

Processo: Spettrometro | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW