Usata etc in Corea del Sud

TEL INDY PLS

• Produttore: Tokyo Electron - TEL

Dimensione del wafer: 12 | Spedizione: EXW

VERTEQ SUPERCLEAN 1600

• Produttore: Verteq
• Modello: SUPERCLEAN 1600

MPD MSP-2300XPI

• Produttore: MPD

Dimensione del wafer: 12" | Dettagli: Deposizione di wafer | Spedizione: EXW

2011 AXCELIS INTEGRA

• Produttore: Axcelis
• Modello: Integra

Dimensione del wafer: 12" | Processo: Sistema ES plasma dry strip | Spedizione: EXW`

1998 NICOLET MAGNA 560 FT-IR

• Produttore: Nicolet
• Modello: MAGNA 560 FT-IR

Spedizione: EXW

LEICA Reichert-Jung,Kensington 300901

• Produttore: Leica

Processo: Microscopio per l'ispezione dei wafer | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

HP 4145B

• Produttore: HP
• Modello: 4145B

Processo: PARAMETRO DEL SEMICONDUTTORE | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

LEICA Reichert-Jung,Kensington 300901

• Produttore: Leica

Processo: Microscopio per l'ispezione dei wafer | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

LEICA AG KENSINGTON 300901

• Produttore: Leica
• Modello: KENSINGTON 300901

Processo: Microscopio per l'ispezione dei wafer | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

LEICA AG KENSINGTON 300901

• Produttore: Leica
• Modello: KENSINGTON 300901

Processo: Microscopio per l'ispezione dei wafer | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

KEITHLEY KEITHLEY 236

• Produttore: Keithley
• Modello: 236

Dettagli: Unità di misura della sorgente | Spedizione: L'imballaggio e la spedizione sono a carico dell'acquirente. | Commenti: KEITHLEY 236 Unità di misura della sorgente

WONIK IPS MAHA HP

• Produttore: WONIK IPS

Dimensione del wafer: 12" | Spedizione: L'imballaggio e la spedizione sono a carico dell'acquirente. | Commenti: WONIK IPS MAHA HP

OXFORD 800+ RIE

• Produttore: OXFORD

Dimensione del wafer: 5" | Processo: RIE

MM FS4060

• Produttore: MM

Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

2006 SIGMAMELTEC SFG3000

• Produttore: SIGMAMELTEC

Dimensione del wafer: 12" | Processo: MASCHERA FOTOGRAFICA | Spedizione: EXW