Usata etc in Corea del Sud

LEICA AG KENSINGTON 300901

• Produttore: Leica
• Modello: KENSINGTON 300901

Processo: Microscopio per l'ispezione dei wafer | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

APPILED MATERIALS JEOL JWS-7500E

• Produttore: Jeol
• Modello: JWS-7500E

Dimensione del wafer: 8" | Processo: Sistema di ispezione dei wafer | Spedizione: EXW

CARLZEISS AXIOTON

• Produttore: CARLZEISS

Processo: MICROSCOPIO DI ISPEZIONE | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

EXPEDIUS

Dimensione del wafer: 12" | Processo: CLN DUMMY | Spedizione: EXW

2005 AXCELIS ES3

• Produttore: Axcelis
• Modello: ES3

Dimensione del wafer: 12"

NIDEC IM 15

• Produttore: Nidec-Shimpo

Processo: Ispezione dei wafer | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

LUMONICS SUPERCLEAN

• Produttore: LUMONICS

Dimensione del wafer: 8" | Processo: Sistema di marcatura laser | Spedizione: EXW`

IWATANI LNS-1

• Produttore: IWATANI

Dettagli: Fornitore di azoto liquido | Spedizione: L'imballaggio e la spedizione sono a carico dell'acquirente. | Commenti: Fornitore di azoto liquido IWATANI LNS-1

OLYMPUS MX80

• Produttore: Olympus
• Modello: MX80

Dimensione del wafer: 8", 12" | Processo: Ambito di applicazione | Spedizione: EXW

1995 DNS SK 80BW AVPE

• Produttore: Dainippon Screen
• Modello: SK-80BW-AVPE

Dimensione del wafer: 8" | Spedizione: EXW

BACKEND P&P2512

• Produttore: BACKEND

Nanometrics Caliper_MOSAIC

• Produttore: Nanometrics
• Modello: CALIPERMOSAIC

Spedizione: L'imballaggio e la spedizione sono a carico dell'acquirente. | Commenti: Calibro Nanometrics_MOSAICO

2012 AXCELIS INTEGRA

• Produttore: Axcelis
• Modello: Integra

Dimensione del wafer: 12" | Processo: Sistema ES plasma dry strip | Spedizione: EXW`

E-TECH SOLUTION INSPECTION SCOPE

• Produttore: Kannegiesser-Etech

Processo: AMBITO DI ISPEZIONE | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

TTS DXL-800HS-CE

• Produttore: TTS

Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW