Usata litho(foto)

2006 TEL LITHIUS

• Produttore: Tokyo Electron - TEL
• Modello: Lithius

Dimensione del wafer: 12" | Processo: TRACCIA | Spedizione: EXW

2006 TEL LITHIUS

• Produttore: Tokyo Electron - TEL
• Modello: Lithius

Dimensione del wafer: 12" | Processo: Sviluppatore di spalmatori ad alta affidabilità e produttività | Spedizione: EXW

2007 DNS SS-3000-AR

• Produttore: Dainippon Screen
• Modello: SS-3000AR

Dimensione del wafer: 12" | Processo: Scrubber per wafer (4Back) | Spedizione: EXW

1997 DNS SK-200W

• Produttore: Dainippon Screen
• Modello: SK-200W

Dimensione del wafer: 8" | Processo: 2C / 2D

LABOTECH HOT PLATE

• Produttore: Labotech

Processo: FOTONICA | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

2014 CANON FPA-5510IX

• Produttore: Canon
• Modello: FPA

Dimensione del wafer: 8", 12" | Processo: stepper

KARLSUSS RC16

• Produttore: KARLSUSS

Processo: MANTELLO A SPILLO | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

KARLSUSS RC16

• Produttore: KARLSUSS

Processo: MANTELLO A SPILLO | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

PHOTO TSK-03C-02-60

• Produttore: PHOTO

PHOTO Thermo Electron

• Produttore: Thermo Fisher Scientific

TEL LITHIUS

• Produttore: Tokyo Electron - TEL
• Modello: Lithius

Dimensione del wafer: 12" | Processo: SISTEMA A BLOCCO SINGOLO 2C/3D | Spedizione: EXW

2000 Nikon S204B

• Produttore: Nikon
• Modello: S204

Dimensione del wafer: 8

2000 Nikon S204B

• Produttore: Nikon
• Modello: S204

Dimensione del wafer: 8

SCREEN RF3S

• Produttore: Screen
• Modello: RF3S

Dimensione del wafer: 12" | Spedizione: EXW

PHOTO SK-200W-BVPE

• Produttore: PHOTO

Processo: Traccia fotografica i-Line (3C3D) | Dimensione del wafer: 8"