
LEICA INM100
- Produttore: Leica
- Modello: INM100
Processo: MANUALE OPERATIVO DEL MICROSCOPIO OTTICO | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW
Los Angeles, California
NIDEC IM800
- Produttore: Nidec-Shimpo
- Modello: IM800
Processo: Ispezione dei wafer | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW
Los Angeles, California
CARLZEISS AXIOTON
- Produttore: CARLZEISS
Processo: Perpomance elevata MICRO SCOPE | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW
Los Angeles, California
Los Angeles, California
Los Angeles, California
2003 IWATSU SS7840
- Produttore: IWATSU
Processo: Oscilloscopio | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW
Los Angeles, California
2003 IWATSU SS7840H
- Produttore: IWATSU
Processo: Oscilloscopio | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW
Los Angeles, California
LEICA INM100
- Produttore: Leica
- Modello: INM100
Processo: cabine | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW
Los Angeles, California
Los Angeles, California
LEICA INM100
- Produttore: Leica
- Modello: INM100
Processo: MANUALE OPERATIVO DEL MICROSCOPIO OTTICO | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW
Los Angeles, California
AMAT DPS II
- Produttore: Amat
- Modello: Centura
Dimensione del wafer: 12" | Processo: OSSIDO | Camera: 3C/H
Georgia, USA
2004 Novellus C3 Speed XT
- Produttore: Lam Research - Novellus
Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H
Georgia, USA
2005 Novellus C3 Speed XT
- Produttore: Lam Research - Novellus
Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H
Georgia, USA
2006 Novellus C3 Speed XT
- Produttore: Lam Research - Novellus
Dimensione del wafer: 12" | Industrial: CVD | Camera: 3C/H
Georgia, USA
2004 Novellus C3 Speed XT
- Produttore: Lam Research - Novellus
Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H
Georgia, USA

