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AMAT DPS II
- Produttore: Amat
- Modello: Centura
Dimensione del wafer: 12" | Processo: OSSIDO | Camera: 3C/H
Georgia, USA
2004 Novellus C3 Speed XT
- Produttore: Lam Research - Novellus
Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H
Georgia, USA
2005 Novellus C3 Speed XT
- Produttore: Lam Research - Novellus
Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H
Georgia, USA
2006 Novellus C3 Speed XT
- Produttore: Lam Research - Novellus
Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H
Georgia, USA
2005 Novellus C3 Speed XT
- Produttore: Lam Research - Novellus
Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H
Georgia, USA
2004 Novellus C3 Speed XT
- Produttore: Lam Research - Novellus
Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H
Georgia, USA
2004 Novellus C3 Speed XT
- Produttore: Lam Research - Novellus
Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H
Georgia, USA
2008 AMAT ENABLER
- Produttore: Amat
- Modello: Centura
Dimensione del wafer: 12" | Processo: OSSIDO | Camera: 3C/H
Massachusetts, USA
Massachusetts, USA
Massachusetts, USA
2008 AMAT ENABLER
- Produttore: Amat
- Modello: Centura
Dimensione del wafer: 12" | Processo: OSSIDO | Camera: 3C/H
Massachusetts, USA
2008 AMAT ENABLER
- Produttore: Amat
- Modello: Centura
Dimensione del wafer: 12" | Processo: OSSIDO | Camera: 3C/H
Massachusetts, USA
2008 AMAT ENABLER
- Produttore: Amat
- Modello: Centura
Dimensione del wafer: 12" | Processo: OSSIDO | Camera: 3C/H
Massachusetts, USA
AMAT SUPER-e
- Produttore: Amat
- Modello: Centura
Dimensione del wafer: 8" | Processo: OSSIDO | Camera: 3C/H
Corea del Sud
Varian M2I
- Produttore: Varian
- Modello: M2I
Dimensione del wafer: 8" | Processo: Sputter | Camera: 3C/H | Spedizione: EXW`
Corea del Sud
