Semiconduttori » Apparecchiature di deposizione (CVD, PVD)

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Building Filters

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Usata h2

  • 1995 AMAT P5000

    1995 AMAT P5000

    • Produttore: Amat
    • Modello: P5000

    Dimensione del wafer: 8" | Camera: 2C/H

    Massachusetts, USA
  • 1995 AMAT P5000

    1995 AMAT P5000

    • Produttore: Amat
    • Modello: P5000

    Dimensione del wafer: 8" | Camera: 2+1C/H (2CVD + 1ETCH)

    Corea del Sud
  • TEL TRIASCHAMBERONLY

    TEL TRIASCHAMBERONLY

    • Produttore: Tokyo Electron - TEL

    Dimensione del wafer: 12" | Processo: LT TI (NH3/H2/CIF3) | Spedizione: EXW

    Corea del Sud
  • TEL TRIASCHAMBERONLY

    TEL TRIASCHAMBERONLY

    • Produttore: Tokyo Electron - TEL

    Dimensione del wafer: 12" | Processo: LT TI (NH3/H2/CIF3) | Spedizione: EXW

    Corea del Sud
  • TEL TRIASCHAMBERONLY

    TEL TRIASCHAMBERONLY

    • Produttore: Tokyo Electron - TEL

    Dimensione del wafer: 12" | Processo: LT TI (NH3/H2/CIF3) | Spedizione: EXW

    Corea del Sud
  • TEL TRIASCHAMBERONLY

    TEL TRIASCHAMBERONLY

    • Produttore: Tokyo Electron - TEL

    Dimensione del wafer: 12" | Processo: LT TI (NH3/H2/CIF3) | Spedizione: EXW

    Corea del Sud
  • TEL TRIASCHAMBERONLY

    TEL TRIASCHAMBERONLY

    • Produttore: Tokyo Electron - TEL

    Dimensione del wafer: 12" | Processo: LT TI (NH3/H2/CIF3) | Spedizione: EXW

    Corea del Sud
  • TEL TRIASCHAMBERONLY

    TEL TRIASCHAMBERONLY

    • Produttore: Tokyo Electron - TEL

    Dimensione del wafer: 12" | Processo: LT TI (N2/H2/CIF3) | Spedizione: EXW

    Corea del Sud
  • TEL TRIASCHAMBERONLY

    TEL TRIASCHAMBERONLY

    • Produttore: Tokyo Electron - TEL

    Dimensione del wafer: 12" | Processo: STAGNO (N2/NH3/H2/CIF3) | Spedizione: EXW

    Corea del Sud
  • AMAT P5000

    AMAT P5000

    • Produttore: Amat
    • Modello: P5000

    Dimensione del wafer: 8" | Processo: DxL | Camera: 2C/H | Spedizione: EXW

    Corea del Sud

Visione d'insieme

CVD (Deposizione Chimica da Vapore) e PVD (Deposizione Fisica da Vapore) sono tecnologie avanzate di rivestimento utilizzate per applicare film sottili o rivestimenti su vari substrati. Il CVD comporta reazioni chimiche sulla superficie di un substrato riscaldato, mentre il PVD comporta la vaporizzazione fisica di un materiale che poi si condensa sul substrato. Questi processi sono ampiamente utilizzati in industrie come l'elettronica, l'aerospaziale e l'automotive per migliorare le proprietà dei materiali come durezza, resistenza all'usura e protezione dalla corrosione.

FAQ

Cosa dovrei considerare quando acquisto una macchina CVD/PVD?

Considera la capacità della macchina, la compatibilità con i materiali di rivestimento desiderati e i requisiti specifici dell'applicazione. Controlla anche lo stato della macchina, l'età e la storia della manutenzione.

Come posso garantire che la macchina CVD/PVD venga spedita in sicurezza alla mia sede?

Utilizza un servizio di trasporto specializzato con esperienza nella gestione di apparecchiature industriali delicate e di alto valore. Assicurati che la macchina sia correttamente imballata e fissata per evitare danni durante il trasporto.

Qual è il programma di manutenzione per una macchina CVD/PVD?

La manutenzione regolare include la pulizia della camera, il controllo e la sostituzione dei filtri, l'ispezione delle guarnizioni e la calibrazione del sistema. Segui le linee guida del produttore per intervalli di manutenzione dettagliati per garantire prestazioni ottimali.