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Usata Apparecchiature Di Deposizione (Cvd, Pvd) in Georgia, USA

  • 2004 Novellus C3 Speed XT

    2004 Novellus C3 Speed XT

    • Produttore: Lam Research - Novellus

    Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H

    Georgia, USA
  • 2005 Novellus C3 Speed XT

    2005 Novellus C3 Speed XT

    • Produttore: Lam Research - Novellus

    Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H

    Georgia, USA
  • 2004 Novellus C3 Speed XT

    2004 Novellus C3 Speed XT

    • Produttore: Lam Research - Novellus

    Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H

    Georgia, USA
  • 2004 Novellus C3 Speed XT

    2004 Novellus C3 Speed XT

    • Produttore: Lam Research - Novellus

    Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H

    Georgia, USA
  • 2005 Novellus C3 Speed XT

    2005 Novellus C3 Speed XT

    • Produttore: Lam Research - Novellus

    Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H

    Georgia, USA
  • 2006 Novellus C3 Speed XT

    2006 Novellus C3 Speed XT

    • Produttore: Lam Research - Novellus

    Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H

    Georgia, USA
  • AMAT DPS II

    AMAT DPS II

    • Produttore: Amat
    • Modello: Centura

    Dimensione del wafer: 12" | Processo: OSSIDO | Camera: 3C/H

    Georgia, USA