PUDOLPH Meta Pluse3
- Produttore: PUDOLPH
Dimensione del wafer: 12" | Processo: Misura dello spessore del film | Spedizione: EXW
Corea del Sud
2005 NANOMETRICS CALIPER_ELAN
- Produttore: Nanometrics
Dimensione del wafer: 12" | Processo: SOVRAPPOSIZIONE | Spedizione: EXW
Corea del Sud
2003 HITACHI RS 4000
- Produttore: Hitachi
- Modello: RS-4000
Dimensione del wafer: 12" | Processo: Revisione dei difetti Sem | Spedizione: EXW
Corea del Sud
2003 RUDOLPH Meta Pulse 300
- Produttore: Rudolph
Dimensione del wafer: 12" | Processo: Misura dello spessore del film
Corea del Sud
KLA_TENCOR PROMETRIX FT750
- Produttore: KLA_TENCOR
Processo: MISURAZIONE DELLO SPESSORE DEL FILM | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW
Corea del Sud
E-TECH SOLUTION INSPECTION SCOPE
- Produttore: Kannegiesser-Etech
Processo: AMBITO DI ISPEZIONE | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW
Corea del Sud
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1998 NICOLET MAGNA 560 FT-IR
- Produttore: Nicolet
- Modello: MAGNA 560 FT-IR
Processo: Spettrometro | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW
Corea del Sud
LEICA Reichert-Jung,Kensington 300901
- Produttore: Leica
Processo: Microscopio per l'ispezione dei wafer | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW
Corea del Sud
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GENUS Stratagem300
- Produttore: GENUS
Spedizione: L'imballaggio e la spedizione sono a carico dell'acquirente. | Commenti: GENERE Stratagemma300
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WONIK IPS MAHA HP2
- Produttore: WONIK IPS
Spedizione: L'imballaggio e la spedizione sono a carico dell'acquirente. | Commenti: WONIK IPS MAHA HP2
Corea del Sud
1998 SEMITOOL EO212PM
- Produttore: Semitool
- Modello: EO212PM
Processo: Cu PLTNG | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW
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HYPERFLOW CENTURA WET
- Produttore: HYPERFLOW
Dimensione del wafer: 6" | Processo: Sistema di lavaggio per barche Wafer Carreier | Spedizione: EXW
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