Usata Semiconduttori in Corea del Sud

2003 RUDOLPH MP200

• Produttore: Rudolph
• Modello: MP200

Dimensione del wafer: 8

1997 LG SEMICON CLS-9002

• Produttore: LG SEMICON

Processo: 3° ISPEZIONE OTTICA | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

2001 J.A.WOOLLAM VUV-VASE VU302(GENI)

• Produttore: J.A.WOOLLAM

Dimensione del wafer: 8 " | Processo: ELLIPSOMETRO | Spedizione: EXW

1991 KLA SFS7200

• Produttore: KLA-Tencor
• Modello: SFS7200

Dimensione del wafer: 8 " | Processo: Metrologia | Spedizione: EXW

2013 ATI OAK-1

• Produttore: ATI

Spedizione: EXW

2005 VISTEC LWM9000

• Produttore: Vistec

Dimensione del wafer: 6" | Spedizione: EXW

2010 HITACHI IS3200SE

• Produttore: Hitachi
• Modello: IS-3200SE

Dimensione del wafer: 12" | Spedizione: EXW

2010 HITACHI LS9000

• Produttore: Hitachi
• Modello: LS9000

Spedizione: EXW

NANOMETRICS CALPER-ULTRA

• Produttore: Nanometrics

Dimensione del wafer: 12" | Spedizione: EXW

RUDOLPH S3000

• Produttore: Rudolph
• Modello: S3000

Dimensione del wafer: 12 | Spedizione: EXW

2011 RUDOLPH S3000A

• Produttore: Rudolph
• Modello: S3000A

Dimensione del wafer: 12 | Spedizione: EXW | Processo: Ellissometria laser a fascio focalizzato

2010 RUDOLPH S3000A

• Produttore: Rudolph
• Modello: S3000A

Dimensione del wafer: 12 | Spedizione: EXW | Processo: Ellissometria laser a fascio focalizzato

FEI FEM2010F

• Produttore: FEI
• Modello: FEM2010F

Dettagli: Doppio raggio | Spedizione: L'imballaggio e la spedizione sono a carico dell'acquirente. | Commenti: FEI FEM2010F Doppio raggio

2005 RUDOLPH MP200

• Produttore: Rudolph
• Modello: MP200

2003 NANOMETRICS CALIPER_MOSAIC

• Produttore: Nanometrics
• Modello: CALIPERMOSAIC

Dimensione del wafer: 12" | Processo: Sovrapposizione | Spedizione: EXW`