Usata Rudolph Metrologia / Ispezione (Semiconduttori) in Corea del Sud

2005 RUDOLPH MP200

• Produttore: Rudolph
• Modello: MP200

2011 RUDOLPH S3000A

• Produttore: Rudolph
• Modello: S3000A

Dimensione del wafer: 12 | Spedizione: EXW | Processo: Ellissometria laser a fascio focalizzato

2010 RUDOLPH S3000A

• Produttore: Rudolph
• Modello: S3000A

Dimensione del wafer: 12 | Spedizione: EXW | Processo: Ellissometria laser a fascio focalizzato

RUDOLPH FE-3

• Produttore: Rudolph

Dimensione del wafer: 8 " | Processo: Ellissometro a fuoco | Spedizione: EXW

2003 RUDOLPH MP200

• Produttore: Rudolph
• Modello: MP200

Dimensione del wafer: 8

2010 RUDOLPH S3000A

• Produttore: Rudolph
• Modello: S3000A

Dimensione del wafer: 12 | Spedizione: EXW | Processo: Ellissometria laser a fascio focalizzato

2010 RUDOLPH S3000S

• Produttore: Rudolph
• Modello: S3000S

Dimensione del wafer: 12 | Spedizione: EXW

2010 RUDOLPH S3000A

• Produttore: Rudolph
• Modello: S3000A

Dimensione del wafer: 12" | Spedizione: EXW

2010 RUDOLPH S3000A

• Produttore: Rudolph
• Modello: S3000A

Dimensione del wafer: 12 | Spedizione: EXW | Processo: Ellissometria laser a fascio focalizzato

2012 RUDOLPH S3000A

• Produttore: Rudolph
• Modello: S3000A

Dimensione del wafer: 8 " | Processo: Ellissometria laser a fascio focalizzato | Camera: EXW

RUDOLPH FE-4D

• Produttore: Rudolph

Dimensione del wafer: 8 " | Processo: Ellissometro a fuoco | Spedizione: EXW

RUDOLPH Meta Pulse

• Produttore: Rudolph
• Modello: Metapulse

Dimensione del wafer: 12" | Processo: Misura dello spessore del film | Spedizione: EXW

RUDOLPH Meta Pulse 200

• Produttore: Rudolph
• Modello: Metapulse 200

Dimensione del wafer: 8 " | Processo: MISURAZIONE DELLO SPESSORE DEL FILM | Spedizione: EXW

RUDOLPH Meta Pulse 3

• Produttore: Rudolph

Dimensione del wafer: 12" | Processo: Misura dello spessore del film | Spedizione: EXW

RUDOLPH Meta Pulse 300

• Produttore: Rudolph

Dimensione del wafer: 12" | Processo: MISURARE LO SPESSORE DEL METALLO | Spedizione: EXW