Usata Metrologia / Ispezione (Semiconduttori) in Corea del Sud

2008 LASERTEC BGM 300

• Produttore: Lasertec

Dimensione del wafer: 8 " | Processo: SISTEMA DI ANALISI E VISUALIZZAZIONE DELLA SUPERFICIE DEL WAFER | Spedizione: EXW

2003 RUDOLPH MP200

• Produttore: Rudolph
• Modello: MP200

Dimensione del wafer: 8

2001 J.A.WOOLLAM VUV-VASE VU302(GENI)

• Produttore: J.A.WOOLLAM

Dimensione del wafer: 8 " | Processo: ELLIPSOMETRO | Spedizione: EXW

2000 RUDOLPH MP200

• Produttore: Rudolph
• Modello: MP200

1998 RODOLPH Meta Pulse 200

• Produttore: RODOLPH

Dimensione del wafer: 8 | 3 dimensioni del wafer: 8 " | Spedizione: EXW

2003 RUDOLPH Meta Pulse 300

• Produttore: Rudolph

Dimensione del wafer: 12" | Processo: Misura dello spessore del film

KLA_TENCOR PROMETRIX FT750

• Produttore: KLA_TENCOR

Processo: MISURAZIONE DELLO SPESSORE DEL FILM | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

RUDOLPH Meta Pulse 200

• Produttore: Rudolph
• Modello: Metapulse 200

Dimensione del wafer: 8 " | Processo: MISURAZIONE DELLO SPESSORE DEL FILM | Spedizione: EXW

2005 RUDOLPH MP200

• Produttore: Rudolph
• Modello: MP200

RUDOLPH Meta Pulse 3

• Produttore: Rudolph

Dimensione del wafer: 12" | Processo: Misura dello spessore del film | Spedizione: EXW

RUDOLPH Meta Pulse 300

• Produttore: Rudolph

Dimensione del wafer: 12" | Processo: MISURARE LO SPESSORE DEL METALLO | Spedizione: EXW

KLA_TENCOR PROMETRIX FT750

• Produttore: KLA_TENCOR

Processo: MISURAZIONE DELLO SPESSORE DEL FILM | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

RUDOLPH Meta Pulse

• Produttore: Rudolph
• Modello: Metapulse

Dimensione del wafer: 12" | Processo: Misura dello spessore del film | Spedizione: EXW

RUDOLPH Meta Pulse 300

• Produttore: Rudolph

Dimensione del wafer: 12" | Processo: Misura dello spessore del film | Spedizione: EXW

KLA TENCOR P-15

• Produttore: KLA-Tencor
• Modello: P-15