Usata Metrologia / Ispezione (Semiconduttori) in Corea del Sud

NGR NGR2150

• Produttore: NGR

Dimensione del wafer: 12" | Dettagli: CD SEM | Spedizione: L'imballaggio e la spedizione sono a carico dell'acquirente. | Commenti: NGR2150 CD SEM

1996 KLA TENCOR P-2

• Produttore: KLA-Tencor

Dimensione del wafer: 6",8" | Consegna: EXW

2001 NANOMETRICS CALIPER_MOSAIC

• Produttore: Nanometrics
• Modello: CALIPERMOSAIC

Dimensione del wafer: 12" | Processo: Sovrapposizione | Spedizione: EXW`

2010 NANOMETRICS CALIPER_MOSAIC

• Produttore: Nanometrics
• Modello: CALIPERMOSAIC

Dimensione del wafer: 12" | Processo: Sovrapposizione | Spedizione: EXW`

2012 RUDOLPH S3000A

• Produttore: Rudolph
• Modello: S3000A

Dimensione del wafer: 8" | Processo: Ellissometria laser a fascio focalizzato | Camera: EXW

KLA_TENCOR P-12

• Produttore: KLA_TENCOR

Dimensione del wafer: 6",8" | Processo: PROFILATORE DISCO | Spedizione: EXW

2010 BRUKER JVX6200

• Produttore: Bruker

Processo: Metro | Spedizione: EXW

RUDOLPH FE-4D

• Produttore: Rudolph

Dimensione del wafer: 8" | Processo: Ellissometro a fuoco | Spedizione: EXW

2008 LASERTEC BGM 300

• Produttore: Lasertec

Dimensione del wafer: 8" | Processo: SISTEMA DI ANALISI E VISUALIZZAZIONE DELLA SUPERFICIE DEL WAFER | Spedizione: EXW

2003 RUDOLPH MP200

• Produttore: Rudolph
• Modello: MP200

Dimensione del wafer: 8

2001 J.A.WOOLLAM VUV-VASE VU302(GENI)

• Produttore: J.A.WOOLLAM

Dimensione del wafer: 8" | Processo: ELLIPSOMETRO | Spedizione: EXW

2000 RUDOLPH MP200

• Produttore: Rudolph
• Modello: MP200

1998 RODOLPH Meta Pulse 200

• Produttore: RODOLPH

Dimensione del wafer: 8 | 3 dimensioni del wafer: 8" | Spedizione: EXW

2003 RUDOLPH Meta Pulse 300

• Produttore: Rudolph

Dimensione del wafer: 12" | Processo: Misura dello spessore del film

KLA_TENCOR PROMETRIX FT750

• Produttore: KLA_TENCOR

Processo: MISURAZIONE DELLO SPESSORE DEL FILM | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW