Corea del Sud
2010 HITACHI IS3200SE
- Produttore: Hitachi
- Modello: IS-3200SE
Dimensione del wafer: 12" | Spedizione: EXW
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JEOL JWS-7500E
- Produttore: Jeol
- Modello: JWS-7500E
Dimensione del wafer: 8 " | Processo: SISTEMA DI ISPEZIONE DEI WAFER | Spedizione: EXW
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2011 RUDOLPH S3000A
- Produttore: Rudolph
- Modello: S3000A
Dimensione del wafer: 12 | Spedizione: EXW | Processo: Ellissometria laser a fascio focalizzato
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2010 RUDOLPH S3000A
- Produttore: Rudolph
- Modello: S3000A
Dimensione del wafer: 12 | Spedizione: EXW | Processo: Ellissometria laser a fascio focalizzato
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FEI FEM2010F
- Produttore: FEI
- Modello: FEM2010F
Dettagli: Doppio raggio | Spedizione: L'imballaggio e la spedizione sono a carico dell'acquirente. | Commenti: FEI FEM2010F Doppio raggio
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2003 NANOMETRICS CALIPER_MOSAIC
- Produttore: Nanometrics
- Modello: CALIPERMOSAIC
Dimensione del wafer: 12" | Processo: Sovrapposizione | Spedizione: EXW`
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2013 RODOLPH Meta Pulse 300
- Produttore: RODOLPH
Dimensione del wafer: 12" | Processo: Misura dello spessore del film | Spedizione: EXW`
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RODOLPH Meta Pulse 300
- Produttore: RODOLPH
Dimensione del wafer: 12" | Processo: Misura dello spessore del film | Spedizione: EXW`
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J.A Woollam VUV-VASE
- Produttore: J.A Woollam
Dimensione del wafer: 12" | Processo: Ellissometro | Spedizione: EXW`
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