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da Aaron Equipment Company

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termina Oct 28th, 10:00 CDT
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Usata Semiconduttori in USA

  • LEICA INM100

    LEICA INM100

    • Produttore: Leica
    • Modello: INM100

    Processo: MANUALE OPERATIVO DEL MICROSCOPIO OTTICO | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

    Los Angeles, California
  • NIDEC IM800

    NIDEC IM800

    • Produttore: Nidec-Shimpo
    • Modello: IM800

    Processo: Ispezione dei wafer | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

    Los Angeles, California
  • CARLZEISS AXIOTON

    CARLZEISS AXIOTON

    • Produttore: CARLZEISS

    Processo: Perpomance elevata MICRO SCOPE | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

    Los Angeles, California
  • 2003 BROOKS MTX 2000

    2003 BROOKS MTX 2000

    • Produttore: Brooks

    Dimensione del wafer: 8 " | Spedizione: EXW

    Los Angeles, California
  • IWATSU SS7840H

    IWATSU SS7840H

    • Produttore: IWATSU

    Processo: Oscilloscopio | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

    Los Angeles, California
  • 2003 IWATSU SS7840

    2003 IWATSU SS7840

    • Produttore: IWATSU

    Processo: Oscilloscopio | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

    Los Angeles, California
  • 2003 IWATSU SS7840H

    2003 IWATSU SS7840H

    • Produttore: IWATSU

    Processo: Oscilloscopio | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

    Los Angeles, California
  • LEICA INM100

    LEICA INM100

    • Produttore: Leica
    • Modello: INM100

    Processo: MANUALE OPERATIVO DEL MICROSCOPIO OTTICO | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

    Los Angeles, California
  • KRUSS DSA10-MK2

    KRUSS DSA10-MK2

    • Produttore: KRUSS

    Processo: MICRO SCOPE | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

    Los Angeles, California
  • LEICA INM100

    LEICA INM100

    • Produttore: Leica
    • Modello: INM100

    Processo: MANUALE OPERATIVO DEL MICROSCOPIO OTTICO | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW

    Los Angeles, California
  • AMAT DPS II

    AMAT DPS II

    • Produttore: Amat
    • Modello: Centura

    Dimensione del wafer: 12" | Processo: OSSIDO | Camera: 3C/H

    Georgia, USA
  • 2004 Novellus C3 Speed XT

    2004 Novellus C3 Speed XT

    • Produttore: Lam Research - Novellus

    Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H

    Georgia, USA
  • 2005 Novellus C3 Speed XT

    2005 Novellus C3 Speed XT

    • Produttore: Lam Research - Novellus

    Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H

    Georgia, USA
  • 2006 Novellus C3 Speed XT

    2006 Novellus C3 Speed XT

    • Produttore: Lam Research - Novellus

    Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H

    Georgia, USA
  • 2004 Novellus C3 Speed XT

    2004 Novellus C3 Speed XT

    • Produttore: Lam Research - Novellus

    Dimensione del wafer: 12" | Processo: CVD | Camera: 3C/H

    Georgia, USA
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