DNS SU-3000
- Produttore: Dainippon Screen
- Modello: SU-3000
Dimensione del wafer: 12" | Processo: Più pulito | Tipo: MP | Spedizione: EXW`
Corea del Sud1998 RODOLPH Meta Pulse 200
- Produttore: RODOLPH
Dimensione del wafer: 8 | 3 dimensioni del wafer: 8 " | Spedizione: EXW
Corea del SudHITACHI S4700-II
- Produttore: Hitachi
- Modello: S 4700
Dimensione del wafer: 12" | Processo: FESEM con Horriba EMAX EDX | Spedizione: EXW
Corea del SudPUDOLPH Meta Pluse3
- Produttore: PUDOLPH
Dimensione del wafer: 12" | Processo: Misura dello spessore del film | Spedizione: EXW
Corea del Sud2005 NANOMETRICS CALIPER_ELAN
- Produttore: Nanometrics
Dimensione del wafer: 12" | Processo: SOVRAPPOSIZIONE | Spedizione: EXW
Corea del Sud2003 HITACHI RS 4000
- Produttore: Hitachi
- Modello: RS 4000
Dimensione del wafer: 12" | Processo: Revisione dei difetti Sem | Spedizione: EXW
Corea del Sud2005 NANOMETRICS NANOMETRICS CALIPER_ULTRA
- Produttore: Nanometrics
Dimensione del wafer: 12" | Processo: Ispezione di maschere e wafer | Spedizione: EXW
Corea del Sud2003 RUDOLPH Meta Pulse 300
- Produttore: Rudolph
Dimensione del wafer: 12" | Processo: Misura dello spessore del film
Corea del Sud1999 NEC NEC SL-473F
- Produttore: NEC
- Modello: SL-473F
Processo: MARCATORE SI WAFER | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW
Corea del SudKLA_TENCOR PROMETRIX FT750
- Produttore: KLA_TENCOR
Processo: MISURAZIONE DELLO SPESSORE DEL FILM | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW
Corea del SudE-TECH SOLUTION INSPECTION SCOPE
- Produttore: Kannegiesser-Etech
Processo: AMBITO DI ISPEZIONE | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW
Corea del Sud- Corea del Sud
1998 NICOLET MAGNA 560 FT-IR
- Produttore: Nicolet
- Modello: MAGNA 560 FT-IR
Processo: Spettrometro | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW
Corea del SudLEICA Reichert-Jung,Kensington 300901
- Produttore: Leica
Processo: Microscopio per l'ispezione dei wafer | Dimensione del wafer: * | Spedizione: EXW
Corea del Sud- Corea del Sud