Usata etcher in Corea del Sud

2009 SUNIC, TENACIER-400VE, ICP Etcher

• Produttore: SUNIC

Numero di serie.: SP0906 | Quantità: 1 | Dettaglio dell'attrezzatura: ICP Etcher | Attrezzatura: ICP Etcher

Sistema senza confini Genius1125, XeF2 ETCHER

• Produttore: Boundless system

Quantità: 1 | Dettaglio dell'attrezzatura: ETCHER XeF2 | Attrezzatura: ETCHER XeF2 | Descrizione: N/A

Sistema Boundless, Genius1125, XeF2 ETCHER

• Produttore: Boundless system

Numero di serie.: N/A | Quantità: 1 | Dettaglio dell'attrezzatura: ETCHER XeF2 | Attrezzatura: ETCHER XeF2 | Descrizione: N/A

2010 Top Eng, LX-380, ICP Etcher

• Produttore: Top ENG

Numero di serie.: MC1005-303 | Quantità: 1 | Dettaglio dell'attrezzatura: ICP Etcher | Attrezzatura: ICP Etcher | Descrizione: N/A

2015 Gigalane, MAXIS-300Lah, ICP Etcher

• Produttore: Gigalane

Numero di serie.: M1108-022-01 | Quantità: 1 | Dettaglio dell'attrezzatura: ICP Etcher | Attrezzatura: ICP Etcher | Descrizione: Wafer fino a 6 pollici

2011 Gigalane, MAXIS 300Lah, ICP Etcher

• Produttore: Gigalane

Numero di serie.: M1108-022-01 | Quantità: 1 | Dettaglio dell'attrezzatura: ICP Etcher | Attrezzatura: ICP Etcher | Descrizione: Wafer fino a 6 pollici

2011 Tainics, TE3100, ICP Etcher

• Produttore: Tainics

Numero di serie.: N/A | Quantità: 1 | Dettaglio dell'attrezzatura: ICP Etcher | Attrezzatura: ICP Etcher | Descrizione: Mordenzatura GaN normale, mordenzatura GaN alta, mordenzatura PSS

2011 Tainics, TE3100, ICP Etcher

• Produttore: Tainics

Numero di serie.: N/A | Quantità: 1 | Dettaglio dell'attrezzatura: ICP Etcher | Attrezzatura: ICP Etcher | Descrizione: Mordenzatura GaN normale, mordenzatura GaN alta, mordenzatura PSS

2010 Top ENG, LX-380, ICP Etcher

• Produttore: Top Eng

Numero di serie.: MC-1005-303 | Quantità: 1 | Dettaglio dell'attrezzatura: ICP Etcher | Attrezzatura: ICP Etcher | Descrizione: N/A

2012 Plasma Therm, VERSALINE, ICP-RIE Etcher

• Produttore: Plasma-Therm
• Modello: VERSALINE

Numero di serie.: N/A | Quantità: 1 | Dettaglio dell'attrezzatura: ICP-RIE Etcher | Attrezzatura: ICP-RIE Etcher | Descrizione: Wafer 200 mm (max)

2013 Oxford, Plasmalab100-ICP380, ICP Etcher

• Produttore: Oxford

Numero di serie.: 94-515033 | Quantità: 1 | Dettaglio dell'attrezzatura: ICP Etcher | Attrezzatura: ICP Etcher | Descrizione: N/A

2013 Oxford, Plasmalab ICP380-PLASMALAB100, ICP Etcher + PECVD

• Produttore: Oxford

Numero di serie.: 94-515033 | Quantità: 1 | Dettaglio dell'attrezzatura: ICP Etcher + PECVD | Attrezzatura: ICP Etcher + PECVD | Descrizione: N/A

Plasmalab ICP380 & Plasmalab100 ICP Etcher 100 RIE+PECVD

• Produttore: OXFORD

2007 AMAT CENTURA ENABLER E2

• Produttore: Amat
• Modello: Centura

Dimensione del wafer: 12" | Processo: ETCHER | Spedizione: EXW`

AMAT CENTURA ENABLER

• Produttore: Amat
• Modello: Centura

Dimensione del wafer: 12" | Processo: ETCHER | Spedizione: EXW`